THP036  ポスター③  10月20日 会議室P 13:00-15:00
KEK におけるニオブ製超伝導空洞の高加速勾配化・低損失化の研究
High-Q and high-G R&D at KEK for Nb superconducting RF cavity
 
○片山 領,梅森 健成,道園 真一郎,オメット マチュー,井藤 隼人,荒木 隼人(高エネルギー加速器研究機構)
○Ryo Katayama, Kensei Umemori, Shinichiro Michizono, Omet Mathieu, Hayato Ito, Hayato Araki (kek)
 
超伝導空洞の性能は空洞に施された冷却過程と表面処理工程の如何に応じて大きく変化するが、近年、海外研究機関において、空洞の急速冷却、低温電解研磨、二段階の低温ベーキング処理(2-step bake)など、従来の手法よりもさらなる性能向上を達成できる実験技術・表面処理工程が相次いで発見・報告されている。実際にその技術的な制御が可能であれば、超伝導空洞のさらなる高電界化・低損失化(High-G, High-Q 化)を実現でき、ILC 計画や超伝導空洞の産業応用等にインパクトがあると予想される。そこで、KEK でも上記の手法を適用した空洞の電界性能を評価することにより、その有効性の実験的な検証を進めてきた。本報告では、主に空洞の急速冷却、低温電解研磨、 2-step bake に関連した超伝導空洞の高電界化・低損失化の研究の現状について報告する。