THPP28 　ポスターセッション②　 9月3日 ポスター会場 13:10-15:10

フッ酸を用いないニオブ電解研磨法の探索（2）

Search of niobium electropolishing method without hydrofluoric acid (2)

○仁井 啓介，井田 義明（マルイ鍍金工業(株)），文珠四郎 秀昭（KEK），八代 仁，白取 凌（岩手大学）

○Keisuke Nii, Yoshiaki Ida (Marui Galvanizing Co., Ltd.), Hideaki Monjushiro (KEK), Hitoshi Yashiro, Ryo Shiratori (Iwate university)

マルイ鍍金、KEK、岩手大学では従来の濃硫酸とフッ酸に代わる、安全性の高いニオブ電解研磨（EP）液、EP手法の研究開発を行っている。これまでにメタンスルホン酸とフッ化アンモニウムを用いた直流EP、パルス反転電圧を用いたEPの結果について報告した。今回、メタンスルホン酸以外の酸を用いた直流EP、3電極法を用いたパルス反転電圧EP実験を行った。直流EPでは、グリコール酸を用いた直流EPにてニオブの研磨が確認された。パルス反転電圧EPでは、3電極法によりニオブの電位を確定させた上でパルス形状と研磨量、研磨状態の評価を行った。