THPI001 　加速構造　 8月1日 国際科学イノベーション棟5階 ホワイエ 13:30-15:30

第三高調波電圧誘導法を用いた多層薄膜試料の超伝導特性の膜厚依存性の評価

Evaluation of dependence of superconducting characteristics on the multilayer thin-film structure with various thicknesses by using the third harmonic voltage method

○片山 領，佐伯 学行，久保 毅幸，早野 仁司（高エネルギー加速器研究機構），岩下 芳久，頓宮 拓（京都大学化学研究所），井藤 隼人（総合研究大学），伊藤 亮平，永田 智啓（アルバック）

○Ryo Katayama, Takayuki Saeki, Takayuki Kubo, Hitoshi Hayano (KEK), Yoshihisa Iwashita, Hiromu Tongu (Kyoto University, ICR), Hayato Ito (Sokendai), Ryohei Ito, Tomohiro Nagata (ULVAC)

超伝導加速空胴において近年、ロンドン長以下の厚さの超伝導薄膜と絶縁膜を交互に積層する工夫により、最大加速勾配の増大が図れると指摘がなされている。加速空胴内面を超伝導薄膜の多層膜コーティングを行い、母材であるニオブへの到達磁場を大幅に低減出来れば、現在のニオブ製の超伝導加速空胴の最大加速勾配を現在の 35 MV/m から大幅に向上できる可能性があり、学術利用加速器から産業利用加速器まで多大なインパクトがあるため、その実現可能性の詳細な検討が望まれている。本研究では、この理論的な枠組みの検証のため、第三高調波電圧誘導法を用いて SiO2 絶縁薄膜をニオブバルク上に 30 nm 成膜した試料の上に NbN 超伝導薄膜を 50 nm - 400 nm 成膜した多層薄膜コーティング試料の超伝導特性の評価を行なった。本研究では、この測定と評価の詳細について報告する。