WEP130  加速器応用、産業利用  8月5日 小ホール 13:00 - 15:00
卓上型放射光MIRRORCLEのX線利用技術の現状
The X-ray analytical technology using the MIRRORCLE X-ray source
 
○前尾 修司(光子発生技研),山田 廣成(立命館大学),長谷川 大祐(近江みらくる),山田 貴典(光子発生技研)
○Shuji Maeo (PPL), Hironari Yamada (Ritsumeikan Univ.), Daisuke Hasegawa (Ohmi MIRRORCLE), Takanori Yamada (PPL)
 
MIRRORCLE型放射光源は、ハイパワー化に成功した結果、高エネルギーX線を発生させることができる高輝度X線源として様々な用途で利用されている。 MIRRORCLEの他では得られない特徴として、MeV以上の高エネルギーX線の発生、⊂播瀬汽ぅ10 μm以下、が挙げられる。このため、X線管では見られなかった高密度、大型のサンプルを、高解像度で見ることができる。工業製品を完全に非破壊で検査し、高精度でCADデータ化することもできる。 さらにMIRRORCLEはXRF、XAFS、XRD、SAXSなど、X線分析の光源としても有用である。特にXRDでは、その応用例としてX線残留応力測定において威力を発揮する。MIRRORCLEは高エネルギー電子の制動放射により白色X線を発生させるため、高エネルギーX線を利用することが簡単である。これを用いれば材料内部の情報を得ることが出来る。このため、従来ではエッチング処理などが必要であった深さ方向分析が処理なしで可能である。またX線光路が塞がれるような複雑な形状のものでも非破壊で計測可能である。エッチングや切断などの破壊工程が不要なため、従来では得られなかった真の残留応力値を計測可能である。 このように従来では困難、もしくは不可能であった計測を可能にできるMIRRORCLE型放射光源は、新しい知見が得られる次世代のX線源として期待されている。