WEP114 　粒子源　 8月2日 第1,2,3,4会議室他 13:00 - 15:00

小型ECRイオン源でのプレートチューナーよる多価イオンの強度増強実験

Improvement highly charged ion production with plate tuner method at Kei3 source

○村松 正幸（放射線医学総合研究所），濱田 滉太，加藤 裕史（大阪大学），北川 敦志（放射線医学総合研究所）

○Masayuki Muramatsu (NIRS), Kouta Hamada, Yushi Kato (Osaka Univ.), Atsushi Kitagawa (NIRS)

現在、世界的に粒子線治療施設の建設が予定されている。それらの計画の中では炭素以外のイオンを加速し、研究などに用いることが計画されている。たとえば、H3+, 3He+, 11B4+のようなイオンを利用する要求がある。これらの要求を達成するために、様々なイオンの供給を行えるECRイオン源（Kei3)の開発を行なっている。Kei3は、既存の炭素線がん治療装置用の小型ECRイオン源と同様の閉じ込め磁場を採用しているため、C4+に近いイオンを生成することが可能となる。Kei3ではこれまでに、バイアスディスク法、ガスミキシング法などを用いて、多種イオンの生成試験を行ってきた。これまでに得られた最大のビーム強度は、He2+: 1.950 mA、C4+: 0.565 mA、N5+: 0.185 mA 、O6+: 0.099 mA 、Ne7+: 0.050 mAである。窒素、酸素、ネオンの調整には、ガスミキシング法を使用している。 今回は、プラズマチェンバー上流に設置してあるrfシールドを駆動させ、マイクロ波のチューナーとして使用した。上流側ミラー磁場のピークから20 mm の位置にrfシールドを設置し、そこから上流側に30 mm動かせるようにした。Ne、Arの価数分布において多価に移行する結果が得られた。