TUP111 　粒子源　 8月1日 第1,2,3,4会議室他 13:00 - 15:00

極短パルスレーザーを用いた高周波同期型レーザーイオン源

RF synchronized laser ion source using ultra short pulse laser

○宮脇 瑛介（京大化研），不破 康裕（京大原子炉），頓宮 拓，岩下 芳久，井上 峻介，中宮 義英，橋田 昌樹，阪部 周二（京大化研）

○Eisuke Miyawaki (Kyoto University Institute for Chemical Research), Yasuhiro Fuwa (Kyoto University Research Reactor Institute), Hiromu Tonguu, Yoshihisa Iwashita, Shunsuke Inoue, Yoshihide Nakamiya, Masaki Hashida, Shuji Sakabe (Kyoto University Institute for Chemical Research)

従来のレーザーイオン源では、ナノ秒レーザーパルスを固体ターゲットに照射してプラズマを生成し、その膨張プラズマからイオンを引き出している。このようなレーザーイオン源においては、イオンビームのパルス幅の制御範囲が限られるという課題がある。そこで我々はプロトンビームのレーザーイオン源として、高周波電場中でパルス幅が30 fs、レーザー強度が〜10^15 W/cm^2の極短パルスレーザーと水素ガスを相互作用させることによりプラズマを生成させ、そのプラズマが膨張する前に短パルスのイオンバンチを引き出すという方式を提案している。これまでの研究で短パルスの単一バンチ構造のイオンが引き出し可能であることと、このイオン電流の時間分布が明らかとなった。今回はガス密度の測定、加速電場の測定とイオンの価数分析を行ったので、その結果について報告する。