TUOL04 　高周波加速構造1　 8月1日 講堂（2F) 16:20 - 16:40

三次高調波電圧誘導法による多層膜コーティング超伝導薄膜の評価

Evaluating the multi-layer thin-film superconductor using the third harmonic voltage method

○片山 領，岩下 芳久，頓宮 拓（京大化研），及川 大基（宇都宮大学），加藤 茂樹，久保 毅幸，佐伯 学行，早野 仁司（高エネ研），日野 正裕（京都大学）

○Ryo Katayama, Yoshihisa Iwashita, Hiromu Tongu (Kyoto U., ICR), Hiroki Oikawa (Utsunomiya University), Shigeki Kato, Takayuki Kubo, Takayuki Saeki, Hitoshi Hayano (KEK), Masahiro Hino (Kyoto University)

超伝導加速空胴において近年、ロンドン長以下の厚さの超伝導薄膜を積層することにより、最大加速勾配の増大が図れるとの指摘があった。加速空洞内面を超伝導薄膜の多層膜コーティングを行うことによって母材であるニオブへの到達磁場を大幅に低減出来れば、現在のニオブ製の超伝導加速空洞の最大加速勾配を大幅に向上できる可能性があるため、その実現可能性の詳細な検討が望まれる。本研究では、超伝導薄膜の評価のため、三次高調波電圧誘導法を用いる。絶縁基板上に成膜された超伝導薄膜のサンプルにコイルで発生させた交流磁場を印加し、コイルのインダクタンスの非線形成分を測定することにより、下部臨界磁場を測定する。本講演ではこのシステムの構築について報告する。