THOL13 　光源加速器／LLRF　 8月3日 講堂（2F) 15:20 - 15:40

SPring-8-IIに向けた挿入光源開発

Insertion device development for SPring-8-II

○金城 良太（理化学研究所），備前 輝彦（JASRI），貴田 祐一郎（理化学研究所），清家 隆光（JASRI），長谷川 照晃（理化学研究所），鏡畑 暁裕，久間 正之，岸本 輝，大橋 治彦（JASRI），山本 樹（KEK-PF），田中 隆次（理化学研究所）

○Ryota Kinjo (RIKEN SPring-8 Center), Teruhiko Bizen (JASRI), Yuichiro Kida (RIKEN SPring-8 Center), Takamitsu Seike (JASRI), Teruaki Hasegawa (RIKEN SPring-8 Center), Akihiro Kagamihata, Masayuki Kuma, Hikaru Kishimoto, Haruhiko Ohashi (JASRI), Shigeru Yamamoto (KEK-PF), Takashi Tanaka (RIKEN SPring-8 Center)

SPring-8のアップグレード計画であるSPring-8-IIでは、エミッタンスを小さくし高い輝度を得るために、電子ビームエネルギーが6 GeVになるとともに、偏向電磁石の数が増えアンジュレータを設置する直線部の長さが短くなる。これに対応し、これまで20年にわたり設置してきた約40台ものアンジュレータを1年間の停止期間の間に入れ替える必要がある。このためのアンジュレータの構造改革の一つとして、多極着磁ブロックを用いた吸引力相殺機構に基づく軽量コンパクトなアンジュレータを開発している。この吸引力相殺機構の実証実験、および吸引力相殺機構を搭載した試作機の実証実験の結果について報告する。また特殊なビームライン向けアンジュレータとして、軟X線ビームラインにおいて問題となる光学系への熱負荷をあらゆる偏光状態で低減するアンジュレータや、高速で偏光を切り替え可能かつ電子ビームへ与える揺動が小さい手法について報告する。